MicroWriter的无掩膜直写方式、加工一致性、设备稳定性,特别适合二维材料研究中频繁调整电极间距、角度和数量的场景,让研究者可以快速迭代六端图案,在标准正性光刻胶和剥离工艺下完成金属电极图形化,为后续各…...