《半导体液体工艺流量选型指南：从介质特性到仪表匹配》(半导体液晶精密装置)

半导体厂的液体工艺包括清洗、蚀刻、显影、CMP、光刻胶涂覆等，介质跨度大，从超纯水到强腐蚀性药液，再到含磨料颗粒的抛光液。液体流量选型不能一刀切，要按介质导电性、洁净度和含固量分别匹配。

一、超纯水和低电导率药液

超纯水的电导率极低，电磁流量计基于法拉第电磁感应定律工作，要求介质导电，超纯水不满足这个条件，读数会不稳甚至没有输出。这类介质可以评估外夹式超声波流量计，采用时差法原理，测量不受电导率影响，传感器夹在管外，不接触介质，不存在污染风险。安装不需要断管，适合已建成的超纯水管路。