真空镀膜是在真空环境下，通过物理或化学方法在基片表面沉积薄膜的工艺，常见的有蒸发镀、溅射镀、CVD、PVD等。镀膜过程中，工作气体和反应气体的流量直接影响膜层厚度、均匀性、附着力和折射率等指标。质量流量控制器（MFC）是这类工艺中控制气体流量的核心部件，选型是否匹配工艺要求，直接关系到镀膜质量和批次一致性。
一、镀膜工艺对MFC有哪些基本要求
真空镀膜的气体流量通常不大，从几sccm到几百sccm不等。MFC要能在低流量段稳定控制，量程选择要让常用流量落在控制器量程的20%到80%区间。真空环境下，管路和控制器内部的密封性要求高，
