
国家知识产权局信息显示,科磊股份有限公司申请一项名为“使用倾斜照明在接合样品计量中的高对比度成像”的专利,公开号CN123022944A,申请日期为2025年3月。
专利摘要显示,一种用于暗场成像的照明系统可包含:一或多个照明源,其提供具有第一空间轮廓的时间非相干光;及两个或更多个透镜组合件,其经配置以将来自所述一或多个照明源的所述光作为两个或更多个照明光束沿成像子系统的物镜外部的光学路径引导到埋入目标。所述两个或更多个照明光束可在所述埋入目标处完全重叠以提供共同照明场。所述透镜组合件限制所述照明光束的数值孔径以防止所述照明光束的镜面反射进入所述物镜。所述两个或更多个透镜组合件中的相应透镜组合件包含均化器以使得所述两个或更多个照明光束中的相应照明光束具有第二空间轮廓,根据选定度量,所述第二空间轮廓具有高于所述第一空间轮廓的空间均匀性。
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